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LEE & LI Bulletin - December 2024

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同一デザインに対する立体商標登録と意匠権の二重保護

同一デザインが商標法上の立体商標と専利法(専利:特許、実用新案、意匠を含む)上の意匠権の両方によって保護されるかどうかは、業界にとって大きな関心事である。 ... More

台湾における特許法令動向

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